Dinamik optik optik sistèm optik: 1pc ti konsantre lens、1-2pcs konsantre lens、Galvo glas. Tout lantiy optik la fòme yon fonksyon nan ekspansyon gwo bout bwa, konsantre ak devyasyon gwo bout bwa ak optik.
Pati a agrandi se yon lantiy negatif, sa vle di ti lantiy konsantre, ki reyalize ekspansyon gwo bout bwa ak deplase rale, lantiy la konsantre konpoze de yon gwoup lantiy pozitif.Iwa galvo a se glas nan sistèm galvanomètr la.
(1) Optimizasyon konsepsyon lantiy: rapò pi bon dyamèt ak rapò epesè
(2) Lantiy gwo domaj papòt:> 30J/cm2 10ns
(3) Ultra-ba absòpsyon kouch, pousantaj absòpsyon: <20ppm
(4) Galvanomèt epesè ak rapò dyamèt: 1: 35
(5) presizyon sifas lantiy:<= λ/5
Post-Objektif Lantiy
Poupil Antre maksimòm (mm) | Optik 1 Dyamèt (mm) | Optik 2 Dyamèt (mm) | Optik 3 Dyamèt (mm) | Scan Field (mm) | Ouvèti klè nan eskanè (mm) | Longèdonn |
8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6um |
12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Reflektè glas
Deskripsyon Pati | Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
Silisyòm reflektè | 25.4 | 3 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45° |
Silisyòm reflektè | 30 | 4 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45° |
Reflektè fib | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
Reflektè fib | 30 | 5 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
Reflektè fib | 50 | 10 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
532 Reflektè | 25.4 | 6 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 30 | 5 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 50 | 10 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 6 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 10 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 30 | 5 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
Galvo glas
Deskripsyon Pati | Poupil Antre maksimòm (mm) | Materyèl | Kouch | Longèdonn |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silisyòm | MMR@10.6um | 10.6um |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@532nm | 532nm |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@355nm | 355nm |
Lantiy Pwoteksyon
Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |