Dinamik optik optik sistèm optik: 1pc ti konsantre lens、1-2pcs konsantre lens、Galvo glas. Tout lantiy optik la fòme yon fonksyon nan ekspansyon gwo bout bwa, konsantre ak devyasyon gwo bout bwa ak optik.
Pati a agrandi se yon lantiy negatif, sa vle di ti lantiy konsantre, ki reyalize ekspansyon gwo bout bwa ak deplase rale, lantiy la konsantre konpoze de yon gwoup lantiy pozitif. Iwa galvo a se glas nan sistèm galvanomètr la.
(1) Optimizasyon konsepsyon lantiy: rapò pi bon dyamèt ak rapò epesè
(2) Lantiy gwo domaj papòt:> 30J/cm2 10ns
(3) Ultra-ba absòpsyon kouch, pousantaj absòpsyon: <20ppm
(4) Galvanomèt epesè ak rapò dyamèt: 1: 35
(5) presizyon sifas lantiy:<= λ/5
Post-Objektif Lantiy
Poupil Antre maksimòm (mm) | Optik 1 Dyamèt (mm) | Optik 2 Dyamèt (mm) | Optik 3 Dyamèt (mm) | Scan Field (mm) | Ouvèti klè nan eskanè (mm) | Longèdonn |
8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6um |
12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Reflektè glas
Deskripsyon Pati | Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
Silisyòm reflektè | 25.4 | 3 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45° |
Silisyòm reflektè | 30 | 4 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45° |
Reflektè fib | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
Reflektè fib | 30 | 5 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
Reflektè fib | 50 | 10 | Silica fusion | HR@1030-1090nm,AOI: 45° |
532 Reflektè | 25.4 | 6 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 30 | 5 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
532 Reflektè | 50 | 10 | Silica fusion | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 6 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 25.4 | 10 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
355 Reflektè | 30 | 5 | Silica fusion | HR@355nm & 433nm, AOI: 45° |
Galvo glas
Deskripsyon Pati | Poupil Antre maksimòm (mm) | Materyèl | Kouch | Longèdonn |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silisyòm | MMR@10.6um | 10.6um |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@532nm | 532nm |
55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silica fusion | HR@355nm | 355nm |
Lantiy Pwoteksyon
Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |