Dinamik optik optik optik: 1pc ti lantiy konsantre 、 1-2pcs konsantre lantiy 、 Galvo glas.The tout lantiy optik fòme yon fonksyon nan ekspansyon gwo bout bwa, konsantre ak deformation gwo bout bwa ak optik.
Pati a agrandi se yon lantiy negatif, sètadi ti lantiy konsantre, ki reyalize ekspansyon gwo bout bwa ak deplase rale, lantiy la konsantre ki konpoze de yon gwoup nan lantiy pozitif. Miwa Galvo a se glas nan sistèm galvanometer la.
(1) Optimizasyon nan konsepsyon lantiy: rapò pi gwo nan dyamèt rapò epesè
(2) Lens segondè domaj papòt:> 30J/cm2 10ns
(3) ultra-ba kouch absòpsyon, to absòpsyon: <20ppm
(4) epesè galvanomè a rapò dyamèt: 1：35
(5) Presizyon sifas lantiy: <= λ/5
Post-Objektif Lens
| Max Antre elèv (MM) | Optik 1 dyamèt (mm) | Optik 2 dyamèt (mm) | Optik 3 dyamèt (mm) | Eskane jaden (mm) | Klè Ouverture nan scanner (mm) | Longèdonn |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6um |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532Nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Glas reflektè
| Pati deskripsyon | Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyo | Kouch |
| Silisyòm reflektè | 25.4 | 3 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45 ° |
| Silisyòm reflektè | 30 | 4 | Silisyòm | HR@10.6um,AOI: 45 ° |
| Reflektè fib | 25.4 | 6.35 | Silica kole | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| Reflektè fib | 30 | 5 | Silica kole | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| Reflektè fib | 50 | 10 | Silica kole | HR@1030-1090NM ， AOI: 45 ° |
| 532 reflektè | 25.4 | 6 | Silica kole | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica kole | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 reflektè | 30 | 5 | Silica kole | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 532 reflektè | 50 | 10 | Silica kole | HR@515-540NM/532NM, AOI: 45 ° |
| 355 reflektè | 25.4 | 6 | Silica kole | HR@355nm & 433nm, AOI: 45 ° |
| 355 reflektè | 25.4 | 6.35 | Silica kole | HR@355nm & 433nm, AOI: 45 ° |
| 355 reflektè | 25.4 | 10 | Silica kole | HR@355nm & 433nm, AOI: 45 ° |
| 355 reflektè | 30 | 5 | Silica kole | HR@355nm & 433nm, AOI: 45 ° |
Galvo glas
| Pati deskripsyon | Max Antre elèv (MM) | Materyo | Kouch | Longèdonn |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Silisyòm | MMR@10.6um | 10.6um |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Silica kole | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Silica kole | HR@532nm | 532Nm |
| 55mml*35mmw*3.5mmt-x 62mml*43mmw*3.5mmt-y | 30 | Silica kole | HR@355nm | 355nm |
Lantiy pwoteksyon
| Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyo | Kouch |
| 75 | 3 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZNSE | AR/AR@10.6um |
