Optik sistèm optik eskanè dinamik: 1pc ti lantiy konsantre, 1-2pcs lantiy konsantre, miwa Galvo. Lantiy optik la an antye fòme yon fonksyon ekspansyon gwo bout bwa, konsantrasyon ak devyasyon gwo bout bwa ak eskanè.
Pati ki ap agrandi a se yon lantiy negatif, sa vle di yon ti lantiy fokus, ki reyalize ekspansyon gwo bout bwa a ak zoom mobil. Lantiy fokus la konpoze de yon gwoup lantiy pozitif. Miwa galvo a se yon miwa nan sistèm galvanomèt la.
(1) Optimizasyon konsepsyon lantiy: Rapò optimal ant dyamèt ak epesè
(2) Seuil domaj segondè pou lantiy: >30J/cm2 10ns
(3) Kouch absòpsyon ultra-ba, to absòpsyon: <20ppm
(4) Rapò epesè galvanomèt ak dyamèt: 1:35
(5) Presizyon sifas lantiy: <= λ/5
Lantiy pòs-objektif
| Maksimòm Elèv Antre (mm) | Optik 1 Dyamèt (mm) | Optik 2 Dyamèt (mm) | Optik 3 Dyamèt (mm) | Jaden eskanè (milimèt) | Ouvèti klè Eskanè (mm) | Longèdonn |
| 8 | 15 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 10.6um |
| 12 | 22 | 55 | 55 | 1600x1600 | 30 | |
| 8 | 16 | 55 | 55 | 600x600 800x800 | 30 | 1030-1090nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 532nm |
| 8 | 15 | 35 | 35 | 300x300 | 10 | 355nm |
Reflektè Miwa
| Deskripsyon Pati | Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
| Reflektè Silisyòm | 25.4 | 3 | Silisyòm | HR@10.6um,Zòn enterè: 45° |
| Reflektè Silisyòm | 30 | 4 | Silisyòm | HR@10.6um,Zòn enterè: 45° |
| Reflektè Fib | 25.4 | 6.35 | Silis fizyone | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Reflektè Fib | 30 | 5 | Silis fizyone | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| Reflektè Fib | 50 | 10 | Silis fizyone | HR@1030-1090nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektè | 25.4 | 6 | Silis fizyone | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektè | 25.4 | 6.35 | Silis fizyone | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektè | 30 | 5 | Silis fizyone | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| 532 Reflektè | 50 | 10 | Silis fizyone | HR@515-540nm/532nm, AOI: 45° |
| Reflektè 355 | 25.4 | 6 | Silis fizyone | HR@355nm ak 433nm, AOI: 45° |
| Reflektè 355 | 25.4 | 6.35 | Silis fizyone | HR@355nm ak 433nm, AOI: 45° |
| Reflektè 355 | 25.4 | 10 | Silis fizyone | HR@355nm ak 433nm, AOI: 45° |
| Reflektè 355 | 30 | 5 | Silis fizyone | HR@355nm ak 433nm, AOI: 45° |
Miwa Galvo
| Deskripsyon Pati | Maksimòm Elèv Antre (mm) | Materyèl | Kouch | Longèdonn |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silisyòm | MMR@10.6um | 10.6um |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silis fizyone | HR@1030-1090nm | 1030-1090nm |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silis fizyone | HR@532nm | 532nm |
| 55mmL * 35mmW * 3.5mmT-X 62mmL * 43mmW * 3.5mmT-Y | 30 | Silis fizyone | HR@355nm | 355nm |
Lantiy Pwoteksyon
| Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Materyèl | Kouch |
| 75 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 80 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x60 | 5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x64 | 2.5 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
| 90x70 | 3 | ZnSe | AR/AR@10.6um |
