SLA (Stereolitografi) se yon pwosesis fabrikasyon aditif ki fonksyone lè li konsantre yon lazè UV sou yon tiwa rezin fotopolimè. Avèk èd lojisyèl fabrikasyon asisté pa òdinatè oswa konsepsyon asisté pa òdinatè (CAM/CAD), yo itilize lazè UV a pou trase yon konsepsyon oswa yon fòm pre-pwograme sou sifas tiwa fotopolimè a. Fotopolimè yo sansib a limyè iltravyolèt, kidonk rezin nan solidifye fotochimikman epi li fòme yon sèl kouch objè 3D yo vle a. Pwosesis sa a repete pou chak kouch konsepsyon an jiskaske objè 3D a fini.
CARMANHAAS te kapab ofri kliyan sistèm optik la sitou gen ladan l yon eskanè galvanomèt rapid ak yon lantiy eskanè F-THETA, yon ekspansè gwo bout bwa, yon glas, elatriye.
Tèt eskanè Galvo 355nm
| Modèl | PSH14-H | PSH20-H | PSH30-H |
| Tèt eskanè dlo fre/sele | wi | wi | wi |
| Ouvèti (mm) | 14 | 20 | 30 |
| Ang eskanè efikas | ±10° | ±10° | ±10° |
| Erè Suivi | 0.19 ms | 0.28ms | 0.45ms |
| Tan Repons Etap (1% nan echèl konplè) | ≤ 0.4 ms | ≤ 0.6 ms | ≤ 0.9 ms |
| Vitès tipik | |||
| Pozisyonman / so | < 15 m/s | < 12 m/s | < 9 m/s |
| Eskane liy/eskane raster | < 10 m/s | < 7 m/s | < 4 m/s |
| Eskanè vektè tipik | < 4 m/s | < 3 m/s | < 2 m/s |
| Bon kalite ekriti | 700 cps | 450 cps | 260 cps |
| Bon kalite ekriti | 550 cps | 320 cps | 180 cps |
| Presizyon | |||
| Linearite | 99.9% | 99.9% | 99.9% |
| Rezolisyon | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad | ≤ 1 urad |
| Repetabilite | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad | ≤ 2 urad |
| Deriv tanperati a | |||
| Dérivasyon konpansasyon | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ | ≤ 3 urad/℃ |
| Dérivasyon Offset Long Tèm pou 8 èdtan (Apre 15 minit avètisman) | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad | ≤ 30 urad |
| Ranje Tanperati Operasyonèl | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ | 25℃±10℃ |
| Entèfas Siyal | Analòg: ±10V Dijital: pwotokòl XY2-100 | Analòg: ±10V Dijital: pwotokòl XY2-100 | Analòg: ±10V Dijital: pwotokòl XY2-100 |
| Kondisyon Pouvwa Antre (DC) | ±15V @ 4A Maksimòm RMS | ±15V @ 4A Maksimòm RMS | ±15V @ 4A Maksimòm RMS |
355nmF-Teta Lantiyes
| Deskripsyon Pati | Longè Fokal (mm) | Jaden eskanè (milimèt) | Antre Maksimòm Elèv (mm) | Distans Travay (mm) | Montaj Fil |
| SL-355-360-580 | 580 | 360x360 | 16 | 660 | M85x1 |
| SL-355-520-750 | 750 | 520x520 | 10 | 824.4 | M85x1 |
| SL-355-610-840-(15CA) | 840 | 610x610 | 15 | 910 | M85x1 |
| SL-355-800-1090-(18CA) | 1090 | 800x800 | 18 | 1193 | M85x1 |
Ekspansyon gwo bout bwa 355nm
| Deskripsyon Pati | Ekspansyon Rapò | Antre CA (milimèt) | CA Sòti (mm) | Lojman Dyamèt (mm) | Lojman Longè (mm) | Montaj Fil |
| BE3-355-D30:84.5-3x-A(M30*1-M43*0.5) | 3X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:84.5-5x-A(M30*1-M43*0.5) | 5X | 10 | 33 | 46 | 84.5 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D33:80.3-7x-A(M30*1-M43*0.5) | 7X | 10 | 33 | 46 | 80.3 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:90-8x-A(M30*1-M43*0.5) | 8X | 10 | 33 | 46 | 90.0 | M30*1-M43*0.5 |
| BE3-355-D30:72-10x-A(M30*1-M43*0.5) | 10X | 10 | 33 | 46 | 72.0 | M30*1-M43*0.5 |
Miwa 355nm
| Deskripsyon Pati | Dyamèt (mm) | Epesè (mm) | Kouch |
| 355 Miwa | 30 | 3 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Miwa | 20 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
| 355 Miwa | 30 | 5 | HR@355nm, 45° AOI |
